反应性离子刻蚀(关于反应性离子刻蚀介绍)

薛有贝
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大家好,笑笑来为大家解答以上的问题。反应性离子刻蚀,关于反应性离子刻蚀介绍这个很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!

1、 反应性离子刻蚀 (reaction ionetching;RIE)是制作半导体集成电路的蚀刻工艺之一。

2、在除去不需要的集成电路板上的保护膜时,利用反应性气体的离子束,切断保护膜物质的化学键,使之产生低分子物质,挥发或游离出板面,这样的方法称为反应性离子刻蚀。

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