导读 大家好,小阳来为大家解答以上的问题。反应离子刻蚀系统，反应离子刻蚀这个很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧！1、这种刻蚀过程同时兼
大家好,小阳来为大家解答以上的问题。反应离子刻蚀系统，反应离子刻蚀这个很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧！
1、这种刻蚀过程同时兼有物理和化学两种作用。
2、辉光放电在零点几到几十帕的低真空下进行。
3、硅片处于阴极电位，放电时的电位大部分降落在阴极附近。
4、大量带电粒子受垂直于硅片表面的电场加速，垂直入射到硅片表面上,以较大的动量进行物理刻蚀,同时它们还与薄膜表面发生强烈的化学反应，产生化学刻蚀作用。
5、选择合适的气体组分，不仅可以获得理想的刻蚀选择性和速度，还可以使活性基团的寿命短，这就有效地抑制了因这些基团在薄膜表面附近的扩散所能造成的侧向反应，大大提高了刻蚀的各向异性特性。
6、反应离子刻蚀是超大规模集成电路工艺中很有发展前景的一种刻蚀方法。
7、离子刻蚀 离子刻蚀以离子为刻饰手段达到刻饰目的的技术，其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。
8、离子最小直径约10nm，离子束刻蚀的结构最小可能不会小于10nm。
9、目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下，最少的达到10nm，获得最小线宽12nm的加工结果。
10、相比电子与固体相互作用，离子在固体中的散射效应较小，并能以较快的直写速度进行小于50nm的刻饰，故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。
11、此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入，甚至无显影刻蚀，直接制造各种纳米器件结构。
12、但是，在离子束加工过程中，损伤问题比较突出，且离子束加工精度还不容易控制，控制精度也不够高。
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